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Wafer水滴角测试仪专业生产厂家
陈述：
Wafer水滴角测试仪采用现代艺制造，仪器采用先进的CMOS数字摄像机，配倍高分辨率变焦式显微镜和高亮度LED背景光源系统，搭配三维样品台，可进行工作台上下、左右、前后等方向移动。
液滴法操作步骤：
调整水平，再把试样置于工作台上，用弹簧片压紧，利用微量进样器调整液滴的量，使在针头形成液滴，转动旋钮使工作台上移，让试样表面与液滴接触，再下移工作台，试样上即可留下液滴。点击后，即可按下述方法进行接触角的测量。测量的方法有三点法测量，只需要点三点就可以测量出角度，非常快捷。
系统说明：
光源系统；采用后置反射板的单色冷光LED背光光源，不是LED灯，光线为平行光，不会产生漫反射现象，液滴形态真实清晰。
我司提供的Wafer水滴角测试仪系统为变倍、变焦的成像系统，变倍、变焦的成像系统在使用中非常方便，既可以得到大书的液滴形态，也可以得到小的液滴形态，而且同样清晰。清晰大的液滴形态对于分析方法中的θ/2法、量高法、两基点法减少人为误差非常重要，这三种方法需要人为的找基点和轮廓线，那么图形越小产生的人为误差越大。如果是变倍不变焦的成像系统购买时需要慎重考虑，变倍不变焦的成像系统在一定焦距范围内成像能力还可以，如果小的液滴图片清晰，大的液滴图片清晰度就会下降，不利于zui后的计算和准确。
Wafer水滴角测试仪专业生产厂家
Wafer水滴角测试仪技术参数：
测量范围：0-180
测量精度：+/-0.1
工作台面尺寸：100mmX120mm
数码CMOS摄像机
瞬间截图
工作台面尺寸：100mm×120mm
测量方法：座滴法
进样器移动：上下100mm左右100
试样尺寸：100mm(宽）80mm（厚）X
工作台上下伸缩：30mm
显微镜移动：前后80mm（微调3mm)
设备外形尺寸：320mm(宽）×530mm（长）×430mm（高）
2x定倍高清显微镜
工作台面移动：上下50mm左右50mm前后30mm
录像任意电影单张导出
录像/回播
工作台固定板移动：前后150mm
分析方法：手动水平测量，手动斜面测量，宽高测量法，人工切线法
Wafer水滴角测试仪专业生产厂家
Wafer水滴角测试仪系统的好坏对液滴形态的清晰与否很重要，我公司提供的是300万的成像系统；像元尺寸；3.2μmX3.2μm，（如果是6.2μmX6.2μm，那么是120万像素的）成像分辨率zui大2048*1536，CCD的无论从像素、像元尺寸、分辨率都比较低，而液滴形态是否清晰对计算非常重要。
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